Compoñentes de baleiro de alta temperatura
O tratamento térmico inclúe principalmente procesos de oxidación, difusión e recocido.A oxidación é un proceso aditivo no que as obleas de silicio son colocadas nun forno de alta temperatura e engádese osíxeno para reaccionar con elas para formar sílice na superficie da oblea.A difusión consiste en mover substancias da zona de alta concentración á rexión de baixa concentración mediante o movemento térmico molecular, e o proceso de difusión pódese usar para dopar substancias dopantes específicas no substrato de silicio, cambiando así a condutividade dos semicondutores.
